电子超纯水设备工艺说明

  电子超纯水设备的应用范围为半导体工业用超纯水、彩色显像管、集成电路、精细化工、实验室用高纯水。半导体、集成电路芯片和封装、液晶显示器、高精度电路板、光电子器件、各种电子器件、微电子工业、大规模和超大规模集成电路需要大量的纯净水，用高纯水和超纯水清洗半成品和成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前，中国电子工业部将电子水质技术分为五个行业级别，即18mΩ。厘米，15兆欧。厘米，10兆欧。厘米，2mΩ。厘米和0.5mΩ。Cm，以便区分不同的水质。

  介绍了电子工业用超纯水的制备工艺流程。电子工业用超纯水的制备工艺大致分为以下三类：（1）反渗透水处理设备与离子交换设备相结合制备电子工业用超纯水的方法。基本工艺流程为：原水→ 多媒体过滤器→ 活性炭过滤器→ 精密过滤器→ 中间水箱→ 反渗透设备→ 混床（双人床）→ 超纯水水箱→ 超纯水泵→ 后安全过滤器→ 水点。（2） 用离子交换树脂制备电子工业用超纯水的传统水处理方法为：原水→ 多媒体过滤器→ 活性炭过滤器→ 精密过滤器→ 中间水箱→ 阳离子床→ 负离子床→ 混床（双人床）→ 超纯水水箱→ 超纯水泵→ 后安全过滤器→ 水点。（3） 采用反渗透设备和电去离子（EDI）技术，该设备用于制备电子工业用超纯水。这是制备超纯水的最新工艺。这也是一种环境友好、经济且有潜力的超纯水制备工艺。其基本工艺流程为：原水→ 多媒体过滤器→ 活性炭过滤器→ 精密过滤器→ 中间水箱→ 反渗透设备→ 电去离子（EDI）→ 超纯水水箱→ 超纯水泵→ 后安全过滤器→ 水点。

  电子行业的超纯水设备通常由多介质过滤器、活性炭过滤器、钠离子软化剂和精密过滤器组成预处理系统、RO反渗透主机系统和离子交换混床（EDI电脱盐系统）系统构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱设置液位控制系统，高低压水泵设置高低压保护装置，采用在线水质检测控制仪表和PLC可编程控制器供电，真正实现无人值守。同时，在工艺材料的选择上采用了推荐与客户要求相结合的方法，与其他同类产品相比，该设备具有更高的性价比和设备可靠性。